د "۱۴م پنځه کلن پلان" په موده کې، د هیواد د "کاربن لوړوالي او کاربن بې طرفه" ستراتیژیک پلان سره سم، د فوتوولټیک صنعت به د چاودیدونکي پرمختګ لامل شي. د فوتوولټیک صنعت خپریدل د ټولې صنعتي سلسلې لپاره "شتمني رامینځته کړې". پدې حیرانونکي سلسله کې، فوتوولټیک شیشه یو لازمي اړیکه ده. نن ورځ، د انرژۍ ساتنې او چاپیریال ساتنې ملاتړ کول، د فوتوولټیک شیشې غوښتنه ورځ په ورځ مخ په زیاتیدو ده، او د عرضې او تقاضا ترمنځ ناانډولي شتون لري. په ورته وخت کې، د ټیټ اوسپنې او الټرا سپین کوارټز شګه، د فوتوولټیک شیشې لپاره یو مهم مواد، هم لوړ شوی، او قیمت یې لوړ شوی او عرضه یې کمه ده. د صنعت کارپوهان وړاندوینه کوي چې د ټیټ اوسپنې کوارټز شګه به د لسو کلونو څخه زیات د 15٪ څخه ډیر اوږدمهاله زیاتوالی ولري. د فوتوولټیک قوي باد لاندې، د ټیټ اوسپنې کوارټز شګه تولید ډیره پاملرنه راجلب کړې ده.
۱. د فوتوولټیک شیشې لپاره کوارټز شګه
د فوتوولټیک شیشه عموما د فوتوولټیک ماډلونو د انکیپسولیشن پینل په توګه کارول کیږي، او دا د بهرني چاپیریال سره مستقیم تماس کې دی. د هوا مقاومت، ځواک، د رڼا لیږد او نور شاخصونه د فوتوولټیک ماډلونو په ژوند او د اوږدې مودې بریښنا تولید موثریت کې مرکزي رول لوبوي. په کوارټز شګه کې د اوسپنې ایونونه د رنګ کولو لپاره اسانه دي، او د اصلي شیشې د لوړ لمریز لیږد ډاډمن کولو لپاره، د فوتوولټیک شیشې د اوسپنې مینځپانګه د عادي شیشې په پرتله ټیټه ده، او د لوړ سیلیکون پاکوالي او ټیټ ناپاکۍ مینځپانګې سره د ټیټ اوسپنې کوارټز شګه باید وکارول شي.
اوس مهال، زموږ په هیواد کې د لوړ کیفیت لرونکي ټیټ اوسپنې کوارټز شګې لږې دي چې په اسانۍ سره استخراج کیدی شي، او په عمده توګه په هیوان، ګوانګسي، فینګیانګ، ان هوی، هاینان او نورو ځایونو کې ویشل کیږي. په راتلونکي کې، د لمریز حجرو لپاره د الټرا سپین امباس شوي شیشې د تولید ظرفیت د ودې سره، د محدود تولید ساحې سره لوړ کیفیت لرونکي کوارټز شګه به نسبتا کمه سرچینه شي. د لوړ کیفیت او مستحکم کوارټز شګې عرضه به په راتلونکي کې د فوتوولټیک شیشې شرکتونو سیالي محدوده کړي. له همدې امله، څنګه په مؤثره توګه په کوارټز شګه کې د اوسپنې، المونیم، ټایټانیوم او نورو ناپاکۍ عناصرو مینځپانګه کمه کړو او د لوړ پاکوالي کوارټز شګه چمتو کړو دا د څیړنې یوه ګرمه موضوع ده.
۲. د فوتوولټیک شیشې لپاره د ټیټ اوسپنې کوارټز شګو تولید
۲.۱ د فوتوولټیک شیشې لپاره د کوارټز شګې پاکول
په اوس وخت کې، د کوارټز پاکولو دودیزې پروسې چې په صنعت کې په بشپړ ډول پلي کیږي عبارت دي له ترتیب کول، سکریب کول، د اوبو د کیلسینیشن قند کول، پیس کول، سیوینګ کول، مقناطیسي جلا کول، د جاذبې جلا کول، فلوټیشن، اسید لیچ کول، مایکروبیل لیچ کول، د لوړې تودوخې ډیګاس کول، او داسې نور. ژور پاکولو پروسې کې کلورین شوي روسټینګ، د شعاع شوي رنګ ترتیب کول، سوپر کنډکټینګ مقناطیسي ترتیب کول، د تودوخې لوړ خلا او داسې نور شامل دي. د کورني کوارټز شګو پاکولو عمومي ګټې اخیستنې پروسه هم د لومړني "پیس کولو، مقناطیسي جلا کولو، مینځلو" څخه "جلا کولو → موټی کرش کول → کیلسینیشن → د اوبو قند کول → پیس کول → سکرینینګ → مقناطیسي جلا کول → فلوټیشن → اسید" پورې رامینځته شوې ده. د ډوبیدو → مینځلو → وچولو ګډې ګټې اخیستنې پروسه، د مایکروویو، الټراسونیک او نورو وسیلو سره د پری درملنې یا مرستندویه پاکولو لپاره یوځای، د پاکولو اغیز خورا ښه کوي. د فوتوولټیک شیشې د ټیټ اوسپنې اړتیاو په پام کې نیولو سره، د کوارټز شګو لرې کولو میتودونو څیړنه او پراختیا په عمده توګه معرفي کیږي.
په عمومي ډول اوسپنه په کوارټز کان کې په لاندې شپږو عامو بڼو کې شتون لري:
① په خټه یا کاولین شوي فیلډسپار کې د کوچنیو ذراتو په بڼه شتون لري
② د اوسپنې اکسایډ فلم په بڼه د کوارټز ذراتو سطحې سره وصل شوی
③ د اوسپنې منرالونه لکه هیماتایټ، میګنیټایټ، سپیکولرایټ، قینایټ، او داسې نور یا د اوسپنې لرونکي منرالونه لکه میکا، امفیبول، ګارنټ، او داسې نور.
④ دا د کوارټز ذراتو دننه د ډوبیدو یا لینز په حالت کې دی
⑤ د کوارټز کرسټال دننه د جامد محلول په حالت کې شتون لري
⑥ د کرشنګ او ګرینډنګ په پروسه کې به د ثانوي اوسپنې یوه ټاکلې اندازه مخلوط شي
د اوسپنې لرونکي منرالونو د کوارټز څخه په مؤثره توګه جلا کولو لپاره، دا اړینه ده چې لومړی د کوارټز ایسک کې د اوسپنې ناپاکۍ د پیښې حالت معلوم کړئ او د اوسپنې ناپاکۍ لرې کولو لپاره د ګټې اخیستنې مناسب میتود او جلا کولو پروسه غوره کړئ.
(۱) د مقناطیسي جلا کولو پروسه
د مقناطیسي جلا کولو پروسه کولی شي د کمزوري مقناطیسي ناپاکۍ منرالونه لکه هیماتایټ، لیمونایټ او بایوټایټ په شمول د تړلو ذراتو څخه تر ډیره حده لرې کړي. د مقناطیسي ځواک له مخې، مقناطیسي جلا کول په قوي مقناطیسي جلا کولو او ضعیف مقناطیسي جلا کولو ویشل کیدی شي. قوي مقناطیسي جلا کول معمولا لوند قوي مقناطیسي جلا کونکی یا لوړ تدریجي مقناطیسي جلا کونکی غوره کوي.
په عمومي ډول، د کوارټز شګه چې په عمده توګه کمزوري مقناطیسي ناپاکۍ منرالونه لري لکه لیمونایټ، هیماتایټ، بایوټایټ، او نور، د 8.0×105A/m څخه پورته ارزښت سره د لوند ډول قوي مقناطیسي ماشین په کارولو سره غوره کیدی شي؛ د اوسپنې ایسک لخوا تسلط لرونکي قوي مقناطیسي منرالونو لپاره، دا غوره ده چې د جلا کولو لپاره ضعیف مقناطیسي ماشین یا منځني مقناطیسي ماشین وکاروئ. [2] نن ورځ، د لوړ تدریجي او قوي مقناطیسي ساحې مقناطیسي جلا کونکو په کارولو سره، مقناطیسي جلا کول او پاکول د تیرو په پرتله د پام وړ ښه شوي دي. د مثال په توګه، د 2.2T مقناطیسي ساحې ځواک لاندې د اوسپنې لرې کولو لپاره د بریښنایی مقناطیسي انډکشن رولر ډول قوي مقناطیسي جلا کونکي کارول کولی شي د Fe2O3 مینځپانګه له 0.002٪ څخه 0.0002٪ ته راټیټه کړي.
(۲) د لامبو وهلو پروسه
فلوټیشن د معدني ذراتو د سطحې په مختلفو فزیکي او کیمیاوي ځانګړتیاو له لارې د معدني ذراتو د جلا کولو پروسه ده. اصلي دنده یې د کوارټز شګې څخه د اړوند معدني میکا او فیلډسپار لرې کول دي. د اوسپنې لرونکي منرالونو او کوارټز د فلوټیشن جلا کولو لپاره، د اوسپنې ناپاکۍ د پیښې بڼه او د هرې ذرې اندازې د ویش بڼه موندل د اوسپنې لرې کولو لپاره د مناسب جلا کولو پروسې غوره کولو کلیدي ده. ډیری اوسپنه لرونکي منرالونه د 5 څخه پورته صفر بریښنایی نقطه لري، کوم چې په تیزابي چاپیریال کې په مثبت ډول چارج کیږي، او په تیوریکي توګه د انیونیک راټولونکو کارولو لپاره مناسب دي.
د اوسپنې اکسایډ ایسک د فلوټیشن لپاره د انیونیک راټولونکي په توګه د غوړ اسید (صابون)، هایدروکاربیل سلفونیټ یا سلفیټ کارول کیدی شي. پیرایټ د کوارټز څخه د پیرایټ فلوټیشن کیدی شي د اچار چاپیریال کې د اسوبوټیل زانټیټ او بټیلامین تور پوډر (4:1) لپاره د کلاسیک فلوټیشن اجنټ سره. خوراک یې شاوخوا 200ppmw دی.
د ایلمینایټ د فلوټیشن لپاره عموما سوډیم اولیټ (0.21mol/L) د فلوټیشن ایجنټ په توګه کارول کیږي ترڅو pH 4~10 ته تنظیم کړي. د ایلمینایټ په سطحه د اولیټ ایونونو او د اوسپنې ذراتو ترمنځ کیمیاوي تعامل واقع کیږي ترڅو د اوسپنې اولیټ تولید کړي، کوم چې په کیمیاوي ډول جذب شوي اولیټ ایونونه ایلمینایټ د ښه فلوټیشن سره ساتي. د هایدروکاربن پر بنسټ فاسفونیک اسید راټولونکي چې په وروستیو کلونو کې رامینځته شوي د ایلمینایټ لپاره ښه انتخاب او د راټولولو فعالیت لري.
(۳) د تیزابو د ایستلو پروسه
د تیزابو د لیچ کولو پروسې اصلي موخه د تیزابو په محلول کې د محلول شوي اوسپنې منرالونو لرې کول دي. هغه عوامل چې د تیزابو لیچ کولو د پاکولو اغیز اغیزه کوي د کوارټز شګو ذراتو اندازه، تودوخه، وخت، د تیزاب ډول، د تیزاب غلظت، د جامد مایع تناسب، او نور شامل دي، او د تودوخې او تیزابو محلول زیاتوي. د کوارټز ذراتو غلظت او د شعاع کمول کولی شي د ال د لیچ کولو کچه او د لیچ کولو کچه لوړه کړي. د یو واحد اسید د پاکولو اغیز محدود دی، او مخلوط اسید یو همغږي اغیزه لري، کوم چې کولی شي د ناپاکۍ عناصرو لکه Fe او K د لرې کولو کچه خورا لوړه کړي. عام غیر عضوي اسیدونه HF، H2SO4، HCl، HNO3، H3PO4، HClO4، H2C2O4 دي، عموما دوه یا ډیر یې مخلوط کیږي او په یو ټاکلي تناسب کې کارول کیږي.
اکسلیک اسید یو عضوي اسید دی چې د تیزابو د لیچ کولو لپاره عام کارول کیږي. دا کولی شي د منحل شوي فلزي ایونونو سره نسبتا مستحکم کمپلیکس جوړ کړي، او ناپاکۍ په اسانۍ سره مینځل کیږي. دا د ټیټ خوراک او د اوسپنې د لرې کولو لوړ نرخ ګټې لري. ځینې خلک د اکسلیک اسید پاکولو کې د مرستې لپاره الټراساؤنډ کاروي، او وموندله چې د دودیز حرکت او ټانک الټراساؤنډ په پرتله، د پروب الټراساؤنډ د Fe لرې کولو لوړه کچه لري، د اکسلیک اسید مقدار له 4g/L څخه کم دی، او د اوسپنې د لرې کولو کچه 75.4٪ ته رسیږي.
د کمزوري اسید او هایدروفلوریک اسید شتون کولی شي په مؤثره توګه د فلزي ناپاکۍ لکه Fe، Al، Mg لرې کړي، مګر د هایدروفلوریک اسید مقدار باید کنټرول شي ځکه چې هایدروفلوریک اسید کولی شي د کوارټز ذرات خراب کړي. د مختلف ډوله اسیدونو کارول د پاکولو پروسې کیفیت هم اغیزه کوي. د دوی په مینځ کې، د HCl او HF مخلوط اسید د پروسس کولو غوره اغیزه لري. ځینې خلک د مقناطیسي جلا کولو وروسته د کوارټز شګه پاکولو لپاره د HCl او HF مخلوط لیچینګ اجنټ کاروي. د کیمیاوي لیچینګ له لارې، د ناپاکۍ عناصرو ټول مقدار 40.71μg/g دی، او د SiO2 پاکوالی تر 99.993wt٪ پورې لوړ دی.
(۴) د مایکروبیل لیچینګ
مایکرو ارګانیزمونه د کوارټز شګو ذراتو په سطحه د پتلي فلم اوسپنې یا امیندواره اوسپنې د لیچ کولو لپاره کارول کیږي، کوم چې د اوسپنې د لرې کولو لپاره په دې وروستیو کې رامینځته شوی تخنیک دی. بهرنیو مطالعاتو ښودلې چې د کوارټز فلم په سطحه د اوسپنې لیچ کولو لپاره د اسپرګیلس نایجر، پینسیلیم، سوډوموناس، پولیمیکسین باسیلس او نورو مایکرو ارګانیزمونو کارول ښې پایلې ترلاسه کړې، چې له دې څخه د اسپرګیلس نایجر د اوسپنې د لیچ کولو اغیز غوره دی. د Fe2O3 د لرې کولو کچه تر ډیره حده له 75٪ څخه پورته ده، او د Fe2O3 غلظت درجه تر 0.007٪ پورې ټیټه ده. او دا وموندل شوه چې د ډیری باکتریا او فنګسونو د کښت دمخه د اوسپنې د لیچ کولو اغیز به غوره وي.
۲.۲ د فوتوولټیک شیشې لپاره د کوارټز شګې د څیړنې نور پرمختګونه
د تیزابو د مقدار کمولو، د فاضله موادو د درملنې د ستونزو کمولو او د چاپیریال دوستانه کیدو لپاره، پینګ شو [5] او نورو د غیر اچار کولو پروسې له لارې د 10ppm ټیټ اوسپنې کوارټز شګې چمتو کولو لپاره یوه طریقه افشا کړه: طبیعي رګ کوارټز د خامو موادو په توګه کارول کیږي، او درې مرحلې کرشنګ، د لومړي پړاو پیس کول او د دوهم پړاو طبقه بندي کولی شي 0.1~0.7mm ګریټ ترلاسه کړي؛ ګریټ د مقناطیسي جلا کولو لومړۍ مرحلې او د میخانیکي اوسپنې او اوسپنې لرونکي منرالونو د قوي مقناطیسي لرې کولو دوهم پړاو لخوا د مقناطیسي جلا کولو شګه ترلاسه کولو لپاره جلا کیږي؛ د شګې مقناطیسي جلا کول د دوهم پړاو فلوټیشن لخوا ترلاسه کیږي د Fe2O3 مینځپانګه د 10ppm ټیټ اوسپنې کوارټز شګې څخه ټیټه ده، فلوټیشن H2SO4 د تنظیم کونکي په توګه کاروي، pH=2~3 تنظیموي، د راټولونکو په توګه د سوډیم اولیټ او د ناریل غوړ پر بنسټ پروپیلین ډایمین کاروي. چمتو شوی کوارټز شګه SiO2≥99.9%، Fe2O3≤10ppm، د آپټیکل شیشې، فوتو الیکټریک ډیسپلې شیشې، او کوارټز شیشې لپاره اړین سلیسیس خامو موادو اړتیاوې پوره کوي.
له بلې خوا، د لوړ کیفیت کوارټز سرچینو د کمښت سره، د ټیټ پای سرچینو جامع کارونې پراخه پاملرنه راجلب کړې ده. د چین د ودانیزو توکو بینګبو شیشې صنعت ډیزاین او څیړنې انسټیټیوټ شرکت لمیټډ ژی اینجون د فوتوولټیک شیشې لپاره د ټیټ اوسپنې کوارټز شګه چمتو کولو لپاره د کاولین ټیلینګونه کارولي. د فوجیان کاولین ټیلینګونو اصلي معدني ترکیب کوارټز دی، کوم چې د ناپاکۍ منرالونو لکه کاولینایټ، میکا، او فیلډسپار لږ مقدار لري. وروسته له دې چې د کاولین ټیلینګونه د "ګرینډینګ-هایډرولیک طبقه بندي-مقناطیسي جلا کولو-فلوټیشن" د ګټې اخیستنې پروسې لخوا پروسس شي، د 0.6 ~ 0.125 ملي میتر ذراتو اندازه د 95٪ څخه زیاته ده، SiO2 99.62٪ دی، Al2O3 0.065٪ دی، Fe2O3 92 × 10-6 ښه کوارټز شګه ده چې د فوتوولټیک شیشې لپاره د ټیټ اوسپنې کوارټز شګه کیفیت اړتیاوې پوره کوي.
د چین د جیولوژیکي علومو اکاډمۍ د ژینګزو د جامع کارونې د کانونو انسټیټیوټ څخه شاو ویهوا او نورو د اختراع پیټینټ خپور کړ: د کاولین ټیلینګونو څخه د لوړ پاکوالي کوارټز شګه چمتو کولو لپاره یوه طریقه. د میتود مرحلې: الف. د کاولین ټیلینګونه د خامو ایسک په توګه کارول کیږي، کوم چې د +0.6 ملي میتر موادو ترلاسه کولو لپاره د هڅولو او پاکولو وروسته پوښل کیږي؛ ب. +0.6 ملي میتر مواد ځمکه او طبقه بندي کیږي، او 0.4 ملي میتر 0.1 ملي میتر معدني مواد د مقناطیسي جلا کولو عملیاتو تابع کیږي، د مقناطیسي او غیر مقناطیسي موادو ترلاسه کولو لپاره، غیر مقناطیسي مواد د جاذبې جلا کولو عملیاتو ته ننوځي ترڅو د جاذبې جلا کولو رڼا منرالونه او د جاذبې جلا کولو درانه منرالونه ترلاسه کړي، او د جاذبې جلا کولو رڼا منرالونه د +0.1 ملي میتر منرالونو ترلاسه کولو لپاره سکرین ته د ریګرینډ عملیاتو ته ننوځي؛ ج. +0.1 ملي میتر معدني مواد د فلوټیشن غلظت ترلاسه کولو لپاره د فلوټیشن عملیاتو ته ننوځي. د فلوټیشن غلظت پورتنۍ اوبه لرې کیږي او بیا په الټراسونیک ډول اچار کیږي، او بیا د لوړ پاکوالي کوارټز شګه په توګه د +0.1 ملي میتر غټ موادو ترلاسه کولو لپاره پوښل کیږي. د اختراع طریقه نه یوازې د لوړ کیفیت کوارټز غلظت محصولات ترلاسه کولی شي، بلکې د پروسس کولو لنډ وخت، د پروسې ساده جریان، د انرژۍ ټیټ مصرف، او د ترلاسه شوي کوارټز غلظت لوړ کیفیت هم لري، کوم چې کولی شي د لوړ پاکوالي کوارټز کیفیت اړتیاوې پوره کړي.
د کاولین لکۍ په پراخه کچه د کوارټز سرچینې لري. د ګټې اخیستنې، پاکولو او ژور پروسس کولو له لارې، دا کولی شي د فوتوولټیک الټرا سپین شیشې خامو موادو کارولو اړتیاوې پوره کړي. دا د کاولین لکۍ سرچینو د جامع کارونې لپاره یو نوی نظر هم وړاندې کوي.
۳. د فوتوولټیک شیشې لپاره د ټیټ اوسپنې کوارټز شګو بازار کتنه
له یوې خوا، د ۲۰۲۰ کال په دویمه نیمایي کې، د پراختیا محدود تولیدي ظرفیت د لوړې سوکالۍ لاندې د چاودیدونکو غوښتنو سره مقابله نشي کولی. د فوتوولټیک شیشې عرضه او تقاضا متوازنه ده، او بیه یې لوړه ده. د ډیری فوتوولټیک ماډل شرکتونو د ګډې غوښتنې لاندې، د ۲۰۲۰ کال په دسمبر کې، د صنعت او معلوماتي ټکنالوژۍ وزارت یو سند خپور کړ چې روښانه کوي چې د فوتوولټیک رول شوي شیشې پروژه ممکن د ظرفیت بدلولو پلان جوړ نه کړي. د نوې پالیسۍ لخوا اغیزمن شوي، د فوتوولټیک شیشې تولید د ودې کچه به له ۲۰۲۱ څخه پراخه شي. د عامه معلوماتو له مخې، د ۲۱/۲۲ کال په تولید کې د روښانه پلان سره د رول شوي فوتوولټیک شیشې ظرفیت به ۲۲۲۵۰/۲۶۵۹۰ ټنه/ډیټ ته ورسیږي، چې د کلنۍ ودې کچه به یې ۶۸.۴/۴۸.۶٪ وي. د پالیسۍ او تقاضا اړخ تضمینونو په صورت کې، تمه کیږي چې فوتوولټیک شګه به د چاودیدونکو ودې پیل وکړي.
د ۲۰۱۵-۲۰۲۲ کال لپاره د فوتوولټیک شیشې صنعت د تولید ظرفیت
له بلې خوا، د فوتوولټیک شیشې د تولید ظرفیت کې د پام وړ زیاتوالی ممکن د ټیټ اوسپنې سیلیکا شګو عرضه د عرضې څخه زیاته کړي، کوم چې په پایله کې د فوتوولټیک شیشې د تولید ظرفیت اصلي تولید محدودوي. د احصایو له مخې، له ۲۰۱۴ کال راهیسې، زما د هیواد د کورني کوارټز شګو تولید عموما د کورني تقاضا په پرتله یو څه ټیټ دی، او عرضه او تقاضا یو سخت توازن ساتلی دی.
په ورته وخت کې، زما د هیواد د ټیټ اوسپنې کوارټز پلیسر کورني سرچینې کمې دي، چې د ګوانګ دونګ په هیوان، د ګوانګ شي په بیهای، د ان هوی په فینګ یانګ او د جیانګ سو په دونګ های کې متمرکزې دي، او د دوی لویه برخه واردولو ته اړتیا لري.
د ټیټ اوسپنې الټرا سپین کوارټز شګه په وروستیو کلونو کې یو له مهمو خامو موادو څخه دی (د خامو موادو د لګښت شاوخوا 25٪ جوړوي). بیه یې هم لوړه شوې ده. په تیرو وختونو کې، دا د اوږدې مودې لپاره شاوخوا 200 یوان / ټن وه. په 20 کلونو کې د Q1 ناروغۍ له خپریدو وروسته، دا له لوړې کچې څخه راټیټ شوی، او دا اوس مهال د وخت لپاره باثباته عملیات ساتي.
په ۲۰۲۰ کال کې، زما د هیواد د کوارټز شګې لپاره عمومي غوښتنه به ۹۰.۹۳ میلیونه ټنه وي، تولید به یې ۸۷.۶۵ میلیونه ټنه وي، او خالص واردات به یې ۳.۲۷۸ میلیونه ټنه وي. د عامه معلوماتو له مخې، په ۱۰۰ کیلوګرامه پړسیدلي شیشې کې د کوارټز ډبرې اندازه شاوخوا ۷۲.۲ کیلوګرامه ده. د اوسني پراختیایي پلان له مخې، په ۲۰۲۱/۲۰۲۲ کې د فوتوولټیک شیشې ظرفیت زیاتوالی ممکن ۳.۲۳/۲۴۵۰۰ ټنه/ډیټ ته ورسیږي، د کلني تولید له مخې چې د ۳۶۰ ورځو په موده کې محاسبه شوی، ټول تولید به د ۸۳۶/۶۳۵ ملیون ټنو/کال د ټیټ اوسپنې سیلیکا شګې لپاره د نوي زیات شوي غوښتنې سره مطابقت ولري، دا چې، د ۲۰۲۱/۲۰۲۲ کې د فوتوولټیک شیشې لخوا راوړل شوي د ټیټ اوسپنې سیلیکا شګې لپاره نوې غوښتنه به په ۲۰۲۰ کې د ټول کوارټز شګې لپاره د غوښتنې ۹.۲٪/۷.۰٪ حساب کړي. د دې په پام کې نیولو سره چې د ټیټ اوسپنې سیلیکا شګه یوازې د ټول سیلیکا شګو غوښتنې یوه برخه جوړوي، د فوتوولټیک شیشې تولید ظرفیت کې د لویې کچې پانګونې له امله د ټیټ اوسپنې سیلیکا شګو باندې د عرضې او تقاضا فشار ممکن د ټول کوارټز شګو صنعت باندې د فشار په پرتله خورا لوړ وي.
— د پوډر شبکې څخه مقاله
د پوسټ وخت: دسمبر-۱۱-۲۰۲۱